因業務調整，部分個人測試暫不接受委托，望見諒。

檢測項目

鐵鎳鈷檢測體系包含三大核心項目：主量元素定量分析、痕量雜質元素篩查及元素賦存形態鑒定。主量元素分析涵蓋鐵（Fe）、鎳（Ni）、鈷（Co）三元素的精確質量分數測定（0.01%-99.99%），需區分金屬態與化合物態含量差異。痕量雜質檢測重點管控鉛（Pb）、鎘（Cd）、砷（As）等12種有害元素（檢出限達0.1ppm級）。形態分析涉及氧化物、硫化物及合金相態鑒別。

特殊項目包括高溫合金中γ'相鈷鎳配比測定、鋰電池正極材料層狀結構元素分布測繪、磁性材料居里點關聯成分驗證等專項分析。腐蝕產物中的鐵鎳鈷氧化物結晶度測定需結合XRD與SEM-EDS聯用技術。

檢測范圍

常規檢測對象包含五類材料體系：1) 不銹鋼及高溫合金（如Inconel系列） 2) 硬質合金與磁性材料 3) 鋰離子電池正極材料（NCA/NCM） 4) 電鍍層與催化劑涂層 5) 地質樣品與工業廢渣。

特殊應用場景延伸至：核反應堆結構材料輻照損傷評估中的元素遷移監測、航空航天緊固件鍍層厚度與成分一致性驗證、醫療植入物金屬離子釋放量監控等高端領域。環境監測方向涵蓋土壤重金屬污染溯源中的鐵鎳鈷同位素比值分析。

檢測方法

標準定量方法采用三級驗證體系：電感耦合等離子體發射光譜法（ICP-OES）執行主量元素快速篩查（GB/T 223.5），火焰原子吸收光譜法（FAAS）驗證高濃度組分（ISO 7530-1），同位素稀釋質譜法（ID-ICP-MS）保障超痕量雜質測定精度（ASTM E1479）。

微觀分析采用場發射掃描電鏡（FE-SEM）配合能譜面掃繪制元素分布圖（放大倍數10,000×），X射線衍射儀（XRD）解析物相結構（2θ角范圍5°-90°）。動態二次離子質譜（SIMS）實現表層10nm深度元素剖面分析。

檢測儀器

核心設備配置包含：1) 高分辨率ICP-MS（質量分辨率＞10,000） 2) 全譜直讀ICP-OES（光學系統恒溫±0.1℃） 3) 四極桿-飛行時間串聯質譜（Q-TOF） 4) 波長色散型X射線熒光光譜儀（WD-XRF）

輔助系統配備激光剝蝕進樣裝置（剝蝕斑徑5-200μm可調）、微波消解工作站（40位高通量反應罐）、惰性氣氛手套箱（氧含量＜0.1ppm）。質量控制設備包含標準物質恒溫存儲柜（-20℃±1℃）、十萬分之一電子天平（符合ISO 17025校準規范）。

檢測流程

1、咨詢：提品資料(說明書、規格書等)

2、確認檢測用途及項目要求

3、填寫檢測申請表(含公司信息及產品必要信息)

4、按要求寄送樣品(部分可上門取樣/檢測)

5、收到樣品，安排費用后進行樣品檢測

6、檢測出相關數據，編寫報告草件，確認信息是否無誤

7、確認完畢后出具報告正式件

8、寄送報告原件